전자재료
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STI CMP 산화세륨 슬러리
당사는 고성능 STI CMP Colloidal Ceria 제품을 공급하고 있습니다.
Truplane® 2303
당사의 Truplane® 2303 산화 세륨은 14nm 이하를 위한 제품입니다. 이는 매우 낮은 고체(Solids) 함량에서 신속한 Removal Rate를 제공합니다.
TRUPLANE® 2303 산화세륨 슬러리의 입도 분포 (D Mean 85nm)
특징
• 매우 정밀한 입도분포 관리, 낮은 LPCs는 연마 Consistency 및 낮은 Defectivity 제공
• 다양한 포트폴리오의 콜로이달 세리아 제공
• Low dishing 및 Low nitride loss로 인한 광범위한 연마 Window 제공
• Low point of use solids로 인한 비용 절감
Industries
Semiconductor
