전자재료
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리클레임 웨이퍼용 CMP 슬러리
당사는 알루미나 기반 CMP 슬러리를 제공하고 있습니다. 이는 우수한 표면 상태 및 Low Defectivity를 구현합니다.
SN8004 리클레임 웨이퍼용 CMP 슬러리의 특징
• 콜로이달 실리카 기반 알칼리 슬러리
• High removal rates (RRs)
• High throughput
• Low defectivity
• 우수한 surface roughness
• 탁월한 슬러리 안정성 및 shelf-life
Industries
Semiconductor
